ציפוי מקרטעת מגנטרון הוא סוג חדש של שיטת ציפוי אדים פיזיקלית, המשתמשת במערכת אקדח אלקטרונים כדי לפלוט ולמקד אלקטרונים בחומר המיועד לציפוי, כך שהאטומים המקרזים פועלים לפי עקרון המרת המומנטום, כך שלחומר יש יותר מכאניות. נכסים. החומר המיועד לציפוי נקרא מטרה מקרטעת, הכוללת בעיקר מתכות, סגסוגות ותרכובות קרמיות. FANMETAL יכולה לספק ללקוחות מטרות מתכת איכותיות כגוןמטרה לקריסת כרום טהורה, מטרת קפיצת זהב,מטרת ריזור טיטניום אלומיניוםומטרת קפיצת נחושת. אנא שלח לנו דוא"ל כדי לספר לנו את הצרכים שלך.
1. טוהר
טוהר הוא אחד ממדדי הביצועים העיקריים של היעד, מכיוון שלטוהר היעד יש השפעה רבה על ביצועי הסרט. עם זאת, ביישומים מעשיים, גם דרישות הטוהר של היעד שונות. לדוגמה, עם ההתפתחות המהירה של תעשיית המיקרו-אלקטרוניקה, גודל פרוסות הסיליקון גדל מ-6", 8" ל-12", ורוחב החיווט הצטמצם מ-0.5um ל-0 .25um, 0.18um או אפילו 0.13um. טוהר היעד הקודם היה 99.995 אחוז זה יכול לעמוד בדרישות התהליך של 0.35um IC, תוך הכנה של {{15 }}.18um שורות דורשות 99.999 אחוז או אפילו 99.9999 אחוז מטוהר היעד.
2. תוכן טומאה
זיהומים במוצק המטרה וחמצן ולחות בנקבוביות הם מקורות הזיהום העיקריים של הסרט המופקד. לחומרי יעד למטרות שונות יש דרישות שונות לתכולת טומאה שונה. לדוגמה, למטרות אלומיניום טהור וסגסוגת אלומיניום המשמשים בתעשיית המוליכים למחצה יש דרישות מיוחדות לתכולת מתכת אלקלית ותכולת יסודות רדיואקטיביים.
3. צפיפות
על מנת להקטין את הנקבוביות במוצק המטרה ולשפר את הביצועים של הסרט המקרטע, המטרה בדרך כלל נדרשת להיות בעלת צפיפות גבוהה יותר. צפיפות המטרה משפיעה לא רק על קצב הקפיצה, אלא גם על המאפיינים החשמליים והאופטיים של הסרט. ככל שצפיפות המטרה גבוהה יותר, כך הביצועים של הסרט טובים יותר. בנוסף, הגדלת הצפיפות והחוזק של המטרה גורמת למטרה לעמוד בלחץ התרמי במהלך תהליך הקפיצה. צפיפות היא גם אחד ממדדי הביצועים העיקריים של היעד.
4. גודל גרגר ופיזור גודל גרגר
בדרך כלל חומר המטרה הוא מבנה רב גבישי, וגודל הגרגיר יכול לנוע בין מיקרונים למילימטרים. עבור אותו חומר מטרה, קצב הקפיצה של המטרה עם גרגירים עדינים הוא מהיר יותר מזה של המטרה עם גרגרים גסים; והתפלגות העובי של הסרט שהופקד על ידי קיצוץ עם הבדל קטן יותר בגודל גרגר (חלוקה אחידה) היא אחידה יותר.
