ניקל Ni Target Sputtering

ניקל Ni sputtering יעד תכונות ויישום

ניקל הוא יסוד מתכתי לבן כסוף עם משיכות טובה, קשיחות ונקודת התכה גבוהה. בתעשייה, ניקל נפוץ בהכנת סגסוגת, ייצור סוללות וכזרז. במיוחד בתחום חומרי המטרה, ניקל נמצא בשימוש נרחב בשל תכונותיו הפיזיקליות והכימיות המעולות. ניקל Ni Sputtering Target עשוי מחומרי ניקל בטוהר גבוה באמצעות מתכות אבקה, התכה אלקטרונית או עיבוד אלקטרוכימי. הם משמשים לעתים קרובות בטכנולוגיית ציפוי קרן אלקטרונים ופירוט, וניתן להשתמש בהם גם לציפוי מכשירים מסוימים בתחום הטכנולוגיה האלקטרונית. הדיוק הגבוה ודרישות הביצועים הגבוהות של השכבה. ניקל Ni Sputtering Target בעל תכונות פרומגנטיות ייחודיות, מוליכות חשמלית טובה, ביצועים קטליטיים חזקים, יציבות כימית טובה, עמידות בטמפרטורה גבוהה, משיכות טובה, עמידות בפני שחיקה, חלקות גבוהה, איכות שקיעת סרט גבוהה וכו', ומתאימים להכנה ושילוב מעגלים. , חומרים מגנטיים, ציוד ניתוח ניסיוני, סרטי מתכת נגד קורוזיה וחומרי אנרגיה אחרים וכו'.
יש לציין כי יש לאחסן את חומר המטרה בסביבה יבשה, קרירה ומאווררת היטב כדי למנוע לחות גבוהה וטמפרטורות קיצוניות, מכיוון שתנאים אלו עלולים לגרום לחמצון או שינויים כימיים אחרים בחומר, אשר ישפיעו גם על היישום בפועל. השפעה.

מפרט יעד לקיזוז ניקל Ni:

תמונות מטרה מקרטעת ניקל ני:

תגיות פופולריות: ניקל ni sputtering יעד, ספקים, יצרנים, מפעל, מותאם אישית, סיטונאי, מחיר, הצעת מחיר, למכירה