טיטניום פולט יעד

טיטניום פולט יעד

FANMETAL אספקה טהורה 99.999% טיטניום פולט יעד. טוהר מ-99.5% ל-99.9999%. נכון לעכשיו, עבור VLSI 4 מגה-ביט, טוהר הטיטניום נדרש להגיע 4N5 (99.995%) ~ 5N (99.999%), בעוד VLSI הדור השלישי 16 מגה-סיביות דורש את טוהר הטיטניום להגיע 6N (99.9999%) לרמה.

אנו מספקים גם את יעד המתכת וחומר אידוי לטוהר גבוה 99.9999%, יעד מתכת יקר (Au, Ag, Pt) , שירות מליטה היעד, ספינות כור היתוך (נחושת, מוליבדן, טונגסטן וכו ')

תמונת יעד מקרטעת מטיטניום:

היישומים העיקריים של יעד טיטניום Sputtering כוללים:

1. חומרים ביולוגיים

טיטניום הוא מתכת לא מגנטית ולא יהיה ממוגנט בשדה מגנטי חזק. יש לו תאימות טובה עם גוף האדם ואין לו תופעות לוואי רעילות. זה יכול לשמש לייצור מכשירי שתל אנושיים. בדרך כלל, חומרי טיטניום רפואיים אינם מגיעים לרמה של טיטניום טוהר גבוה, אבל בהתחשב בפירוק זיהומים בטיטניום, טוהר הטיטניום לשתלים צריך להיות גבוה ככל האפשר. הספרות גם מזכירה כי חוט טיטניום טוהר גבוה יכול לשמש כחומר חסון ביולוגי. בנוסף, מחט הזרקת הטיטניום עם הצנתר המוטבע הגיעה גם לרמת טיטניום טוהר גבוהה.

2. חומרי קישוט

טיטניום טוהר גבוה יש עמידות מעולה בפני קורוזיה אטמוספרית, ולא ישנה צבע לאחר שימוש ארוך טווח באטמוספירה, מה שמבטיח את הצבע המקורי של טיטניום. לכן, טיטניום טוהר גבוה יכול לשמש גם כחומרי קישוט בניין. בנוסף, בשנים האחרונות, כמה קישוטים יוקרתיים וחלקם לובשים מאמרים, כגון צמידים, שעונים ומסגרות מחזה, עשויים טיטניום, אשר מנצל את המאפיינים של עמידות בפני קורוזיה, שינוי צבע, תחזוקה ארוכת טווח של מבריק טוב, וחוסר רגישות במגע עם עור אנושי. טוהר הטיטניום המשמש בכמה קישוטים הגיע לרמת 5N.

3. חומר שאפתני

טיטניום, כמתכת פעילה מאוד עם תכונות כימיות, יכול להגיב עם אלמנטים ותרכובות רבים בטמפרטורות גבוהות. טיטניום טוהר גבוה יש ספיחה חזקה של גזים פעילים (כגון O2, N2, CO, CO2, אדי מים מעל 650 מעלות צלזיוס). הסרט Ti התאדה על קיר המשאבה יכול ליצור משטח עם יכולת ספיחה גבוהה. מאפיין זה הופך את Ti לשימוש נרחב כמקבל במערכות שאיבת ואקום אולטרה-גבוהות. אם נעשה שימוש במשאבות סובלימציה, משאבות יונים מקרטעות וכו ', לחץ העבודה האולטימטיבי של משאבת היונים המקרטעת יכול להיות נמוך כמו 10-9Pa.

4. חומרי מידע אלקטרוניים

בשנים האחרונות, עם ההתפתחות המהירה של תחומי היי-טק כגון טכנולוגיית מוליכים למחצה וטכנולוגיית מידע, גדלה כמות הטיטניום עתיר הטוהר המשמשת ביעדים מקרטעים (ראו איור 1), מעגלים משולבים, DRAMs וצגים שטוחים. דרישות הטוהר של החומרים נעשות גבוהות יותר ויותר. בתעשיית VLSI מוליכים למחצה, תרכובות סיליקון טיטניום, תרכובות חנקן טיטניום טיטניום, טונגסטן תרכובות טיטניום, וכו 'משמשים מחסומי דיפוזיה וחומרי חיווט עבור אלקטרודות הבקרה. שיטת ההבעה משמשת לייצור חומרים אלה, ויעד הטיטניום המשמש בשיטת הפטפוטים דורש טוהר גבוה, במיוחד עבור אלמנטים מתכת אלקליים ואלמנטים רדיואקטיביים.

בשנים האחרונות, הציוד התואם שלה החל גם להשתמש טיטניום טוהר גבוה עם טוהר זהה ליעד טיטניום מקרטעת.

תגיות פופולריות: יעד טיטניום Sputtering, ספקים, יצרנים, מפעל, מותאם אישית, סיטונאי, מחיר, הצעת מחיר, למכירה